Wafer lasersnijmachine
video

Wafer lasersnijmachine

Wafer lasersnijmachine wordt gebruikt voor lasermodificatie en het snijden van siliciumgebaseerde wafels in de halfgeleiderindustrie voor 8- inch en boven chipafdichtings- en testplanten.
Aanvraag sturen
product Introductie

Productvoordelen:

Hoogwaardige kwaliteit

Er is geen schade aan het oppervlak, geen snijaad en de ineenstorting van de rand is erg klein (minder dan of gelijk aan 2 μm), de rand is klein (< 3 μ m)

Hoog rendement

Multi -focusaanpassingsmodus kan worden gebruikt om de snijefficiëntie te vermenigvuldigen

Goede stabiliteit

De laser heeft een hoge gemiddelde vermogensstabiliteit (minder dan of gelijk aan ± 3% gedurende 24 uur) en hoge bundelkwaliteit (m ² <1,5)

Wafer Cutting machine

Item

Hoofdparametetrs

Laser

Middengolflengte

Aangepaste infraroodgolflengte

Snijhoofd

Zelf ontwikkeld collimerend hoofd

Prestatie

Effectieve werkslag

300x400mm (optioneel)

Repetitieve positioneringsnauwkeurigheid

±1μm

Visuele positionering

Automatische visuele positionering

Verwerkingsmethode

Laag door laag upgraden, single point / multi-point verwerking

Anderen

Wafer maat

8 inch (12inch is compatibel)

Verwerkingsproces

Laser gemodificeerd snijden - filmspreiding

Verwerkingsobject

MEMS-chip, siliconen gebaseerde biochip, siliciumtarwechip, CMOS-chip, enz

 

​Siliciumwafel dicideren:

Precisie snijden van 200 mm/300 mm siliciumwafels voor geïntegreerde circuits (ICS)

Minimaliseert chipping en defecten tijdens het diciderenproces

​Mems apparaatfabricage:

Ultra-nauwkeurige laserschrijven voor micro-elektromechanische systemen (MEMS)

Geschikt voor dunne-filmsensoren en actuatoren

​IC -verpakking:

Nauwkeurige matrijsscheiding voor geavanceerde verpakkingstechnieken (fan-out, 3D-stapel)

​Zonnecelproductie:

Compatibel met silicium- en samengestelde halfgeleidermaterialen

 

Unieke verkooppunten:

  • Non-contact snijden: vermijdt mechanische stress en verontreiniging
  • Real-time monitoring: AI-aangedreven systeem detecteert defecten tijdens de verwerking
  • Energie -efficiëntie: laag stroomverbruik in vergelijking met traditionele snijmethoden
  • Aanpasbare parameters: verstelbaar laservermogen en pulsfrequentie

sample

samples

wafer sample

Product FAQ's:

 

V1: Wat is de maximale wafersgrootte die deze lasersnijder kan verwerken voor halfgeleidertoepassingen?

A: Onze apparatuur ondersteunt wafels tot 300 mm x 300 mm, waardoor het ideaal is voor grootschalige IC- en MEMS-productie.

 

V2: Hoe minimaliseert de lasersnijden thermische schade aan siliciumwafels?

A: We gebruiken een 1064 nm vezellaser met precieze pulsregeling en real-time temperatuurbewaking om een ​​warmtegerichte zone (HAZ) van minder dan 1 μm te garanderen, die de wafelintegriteit beschermen.

 

V3: Is de apparatuur compatibel met cleanroom -omgevingen in halfgeleider Fabs?

A: Ja! Onze machines voldoen aan ISO Class 1000 Cleanroom Standards en zijn voorzien van besmettingsbestendige ontwerpen voor IC-verpakkingen en MEMS-fabricage.

 

V4: Kan het wafer lasersnijsysteem niet-siliciummaterialen zoals GaAs of kwarts processen?

A: Absoluut. Het systeem is compatibel met silicium, kwarts, glas en GaAs, ter ondersteuning van verschillende toepassingen in fotonica en samengestelde halfgeleiderproductie.

 

V5: Wat is de typische doorvoer voor wafel met een groot volume?​
A:Met onzeGeautomatiseerd uitlijningssysteem, de machine bereikt tot
500 wafels/uur
(Varieert per patrooncomplexiteit), waardoor een efficiënte productie voor halfgeleider Fabs wordt gewaarborgd.

Populaire tags: Wafer laser snijmachine, fabrikanten, leveranciers, prijs, te koop

Aanvraag sturen

Huis

Telefoon

E-mail

Onderzoek