Wafer lasersnijmachine
Productvoordelen:
Hoogwaardige kwaliteit
Er is geen schade aan het oppervlak, geen snijaad en de ineenstorting van de rand is erg klein (minder dan of gelijk aan 2 μm), de rand is klein (< 3 μ m)
Hoog rendement
Multi -focusaanpassingsmodus kan worden gebruikt om de snijefficiëntie te vermenigvuldigen
Goede stabiliteit
De laser heeft een hoge gemiddelde vermogensstabiliteit (minder dan of gelijk aan ± 3% gedurende 24 uur) en hoge bundelkwaliteit (m ² <1,5)

|
Item |
Hoofdparametetrs |
|
|
Laser |
Middengolflengte |
Aangepaste infraroodgolflengte |
|
Snijhoofd |
Zelf ontwikkeld collimerend hoofd | |
|
Prestatie |
Effectieve werkslag |
300x400mm (optioneel) |
|
Repetitieve positioneringsnauwkeurigheid |
±1μm |
|
|
Visuele positionering |
Automatische visuele positionering |
|
|
Verwerkingsmethode |
Laag door laag upgraden, single point / multi-point verwerking | |
|
Anderen |
Wafer maat |
8 inch (12inch is compatibel) |
|
Verwerkingsproces |
Laser gemodificeerd snijden - filmspreiding | |
|
Verwerkingsobject |
MEMS-chip, siliconen gebaseerde biochip, siliciumtarwechip, CMOS-chip, enz | |
Siliciumwafel dicideren:
Precisie snijden van 200 mm/300 mm siliciumwafels voor geïntegreerde circuits (ICS)
Minimaliseert chipping en defecten tijdens het diciderenproces
Mems apparaatfabricage:
Ultra-nauwkeurige laserschrijven voor micro-elektromechanische systemen (MEMS)
Geschikt voor dunne-filmsensoren en actuatoren
IC -verpakking:
Nauwkeurige matrijsscheiding voor geavanceerde verpakkingstechnieken (fan-out, 3D-stapel)
Zonnecelproductie:
Compatibel met silicium- en samengestelde halfgeleidermaterialen
Unieke verkooppunten:
- Non-contact snijden: vermijdt mechanische stress en verontreiniging
- Real-time monitoring: AI-aangedreven systeem detecteert defecten tijdens de verwerking
- Energie -efficiëntie: laag stroomverbruik in vergelijking met traditionele snijmethoden
- Aanpasbare parameters: verstelbaar laservermogen en pulsfrequentie



Product FAQ's:
V1: Wat is de maximale wafersgrootte die deze lasersnijder kan verwerken voor halfgeleidertoepassingen?
A: Onze apparatuur ondersteunt wafels tot 300 mm x 300 mm, waardoor het ideaal is voor grootschalige IC- en MEMS-productie.
V2: Hoe minimaliseert de lasersnijden thermische schade aan siliciumwafels?
A: We gebruiken een 1064 nm vezellaser met precieze pulsregeling en real-time temperatuurbewaking om een warmtegerichte zone (HAZ) van minder dan 1 μm te garanderen, die de wafelintegriteit beschermen.
V3: Is de apparatuur compatibel met cleanroom -omgevingen in halfgeleider Fabs?
A: Ja! Onze machines voldoen aan ISO Class 1000 Cleanroom Standards en zijn voorzien van besmettingsbestendige ontwerpen voor IC-verpakkingen en MEMS-fabricage.
V4: Kan het wafer lasersnijsysteem niet-siliciummaterialen zoals GaAs of kwarts processen?
A: Absoluut. Het systeem is compatibel met silicium, kwarts, glas en GaAs, ter ondersteuning van verschillende toepassingen in fotonica en samengestelde halfgeleiderproductie.
V5: Wat is de typische doorvoer voor wafel met een groot volume?
A:Met onzeGeautomatiseerd uitlijningssysteem, de machine bereikt tot500 wafels/uur(Varieert per patrooncomplexiteit), waardoor een efficiënte productie voor halfgeleider Fabs wordt gewaarborgd.
Populaire tags: Wafer laser snijmachine, fabrikanten, leveranciers, prijs, te koop
Een paar
Glazen lasersnijmachineVolgende
CO2 lasersnij- en graveermachineAanvraag sturen














